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      GC-9860-5CPDHID氦離子氣相色譜儀

      GC-9860-5CPDHID氦離子氣相色譜儀

      簡要描述:

      GC-9860-5CPDHID氦離子氣相色譜儀適用于高純氣體、超高純氣體及電子工業用氣體中痕量雜質的檢測。該產品以GC-9860氣相色譜儀為載體,配備VALCO公司生產的氦離子化(PDHID)檢測器;采用公司擁有專業技術的四閥五柱的中心切割與反吹技術,其中的所有進樣和切換閥均為VALCO公司生產的帶吹掃保護氣路的六通或十通閥;上述部分與VALCO公司原裝的氦氣純化器、無死體積取樣閥等部件一起組成。

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      GC-9860-5CPDHID氦離子氣相色譜儀產品的特點與技術要求:

      1.氣體行業專業色譜技術成套解決方案;

      2.采用VICI公司Valco帶吹掃型十通與六通切換閥控制氣路;

      3.應用氣體分離色譜柱分離預切再分離技術;

      4.采用本公司專門技術的可分離與嵌入式單體控溫柱爐;

      5.工藝流程采用多路精密零死體閥控制多維色譜分離柱流量;

      6.分析流程全部采用Valco公司316不銹鋼管路與鍍金接頭;

      7.核心靈敏部件采用Valco公司PDHID脈沖氦離子檢測器;

      8.成套專業化的數字與全中文反控氣相色譜儀。

      中心切割與反吹系統

      GC-9860-5CPDHID氦離子化氣相色譜儀采用多閥多柱的中心切割與反吹系統,該系統由多個吹掃型十通閥及多根色譜柱聯合組成,通過工作站設置的時間程序自動控制其進樣、切換、切割與反吹等過程,完成包括高純氮、高純氫、高純氧、高純氦、高純二氧化碳、高純氬、氪氣、氙氣、氖氣等高純氣體以及硅烷等電子工業用氣體中痕量雜質的檢測。

      VALCO吹掃型十通閥
      GC-9860-PDHID氦離子化氣相色譜儀所配備的均為*VALCO生產的經特殊加工的色譜柱技術

      杜絕氧吸附

      氣體全分析流程:四閥五柱

      HP-2氦氣純化器:

      可純化氣體:He、Ar、Ne、Kr、Xe、Rn 、NO、NH3、CF4等

      殘留濃度:≤10ppb

      外置式單氣路恒溫柱箱

      ◆單氣路,箱爐可獨立控溫與恒溫;

      ◆加熱塊與柱爐體采用可分離與嵌入式技術;安裝與拆卸實用方便;

      ◆爐體與外箱盒設計分體, 安裝色譜柱, 分離與嵌入加熱塊,填裝保溫棉材等都人性化設計;

      ◆PDHID是利用氦中穩定的,低功率脈沖放電作電離源,使被測組分電離產生信號。

      PDHID是非放射性檢測器,對所有物質均有高靈敏度的正響應。

      ◆非放射性檢測器,使用安全;

      ◆檢測靈敏度高,氣體中雜質的小檢測濃度達5ppb。

      Valco  PDHID氦離子化檢測器對6種雜質的檢測限(ppb)

      雜質種類

      H2

      O2

      N2

      CO

      CH4

      CO2

      檢測限

      5

      10

      10

      25

      5

      5

      GC-9860-5CPDHID氦離子氣相色譜儀分析過程

      1.如高純N2通過程序設定,樣品通過閥1定量管定量進入預柱1/8"*2mHayesepQ 1,預柱很好的把O2中CO2和H2、O2(Ar)、N2、CH4、CO組分預分離,待H2、O2(Ar)、N2、CH4、CO 流出預柱,自動切換閥1。CO2直接通過閥1放空.

      2.閥3一開始是1-4相同,當O2從分子篩柱流出后進入閥3后,進入后面的分析篩,閥3切換,H2、02直接進入后面的分子篩繼續分離,通過閥4進入檢測器檢測。此時閥3處于放空狀態,放掉大部分的氮氣,當CH4即將流出前面分子篩,閥3再次切換, CH4與氮氣的混合氣體進入后面的分子篩繼續分離,通過閥4進入檢測器進行檢測。當CH4*流出前面分子篩后,閥3再次切割為放空狀態,繼續放掉氮氣。

      3.當CO即將流出分子篩,閥3再次切換,CO通過閥3進入后面的分子篩繼續分離,進入檢測器檢測。當CO從前面分子篩流出后,閥3再次切換,處于放空狀態。

      4.閥2是用來分析CO2的,當樣品從定量環中帶入預柱中,一開始閥2是處于放空狀態,待H2、O2(Ar)、N2、CH4、CO流出排空后,閥2切換,把CO2反吹進檢測器進行分析。


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